国内外专家学者在校研讨薄膜与涂层先进制备技术

发布:2018-1-22 来源:新材料研究所 浏览:1925 字体:
 加载中

  新闻经纬讯 1月18日,由我校与日本东北大学、美国加州大学欧文分校共同举办的2018年薄膜与涂层先进制备技术国际研讨会(the 2018 International Workshop on Advanced Synthesis and Processing Technology for Films and Coatings)在逸夫楼会议室举行,会议主席由中国工程院院士、我校材料复合新技术国家重点实验室张联盟教授担任,参加本次会议的有来自中国、美国、俄罗斯、日本、印度、墨西哥等国家的学者和代表。

  张联盟院士在致辞时对国内外著名专家学者的到来表示欢迎,介绍了本次国际研讨会的举办目的和会议流程。本次会议在高功能薄膜新材料的先进制备技术及工程应用学科创新引智基地(111计划,B13035)项目的支持下展开,旨在为来自不同国家和地区的薄膜与涂层领域的专家和学者提供一个相互交流和学习的平台。

  日本东北大学Takashi Goto教授、俄罗斯尼古拉耶夫无机化学研究所Marina L. Kosinova教授、美国加州大学欧文分校Enrique J. Lavernia教授、Julie M. Schoenung教授、戴维斯分校Yayoi Takamura教授、印度科学研究所Nitu Bhaskar教授、墨西哥理工学院Roberto J. Vargas Garcia教授、日本北海道大学Toshihiro Shimada教授、武汉理工大学涂溶教授、林耀军教授以及研究生代表围绕大会主题做了相关报告。报告内容涉及激光化学气相沉积法制备sialon薄膜、碳化硅薄膜以及超导薄膜,用有机化合物制备功能材料,复杂氧化物异质结的工程功能性质,羟基磷灰石和氧化铝基涂层的体外和体内生物相容性评价以及其他薄膜与涂层材料的制备与加工技术。与会专家学者还就薄膜与涂层在合成与加工技术中遇到的问题、薄膜与涂层领域未来的发展以及应用前景进行了深入的交流与讨论。

  报告结束后,Takashi Goto教授和Enrique J. Lavernia教授分别对此次会议内容做总结,认为这次会议为不同国家地区的学者们提供了良好的交流平台,报告的内容丰富且富有启发,整个会议期间充满了浓厚的学术交流氛围,对促进薄膜与涂层领域的发展产生了积极影响。

关键词 薄膜国际研讨会

分享到 

关注校园动态    打造新闻精品

本站所有文章版权归经纬网所有,如需转载,请先征得Token团队授权

© 2018 武汉理工大学经纬网

  检测到正在使用 Internet Explorer 。为了更好地浏览新闻经纬,请将浏览器升级到更高版本或更换浏览器    点击此处安装新内核